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集成電路清洗廢水回用系統

文章作者：萊特萊德發布時間：2022-08-11

集成電路作為集成電路產品的核心部件，其質量的好壞直接決定到集成電路整機產品的性能和可靠性。在集成電路的制備過程中，表面附著的顆粒、有機物、金屬等污染物嚴重影響器件的性能。隨著集成電路板中單元圖案的日益小型化和集成度的提高，對器件性能、可靠性、產量和使用壽命的要求也越來越高。因此，在集成電路制造過程中的許多工藝，如硅氧化、光刻、外延、擴散和鉛蒸發等之前，為了獲得符合清潔度要求的硅片，要用物理或化學方法去除硅片表面的污染物及其自身的氧化物，但這也產生了大量的廢水。

集成電路板清洗過程中排出的廢水含有纖維物質、鉻、鎳、鋅、酸堿等污染成分，如不進行有效處理或處理不當，將對環境造成嚴重污染。天然水體受酸、堿、重金屬污染后，水體的緩沖作用被破壞，使水質惡化，抑制或阻止微生物活動，降低水的自凈能力，還會對農作物造成危害，重金屬離子對健康有很大的危害。而且水中的重金屬離子不會被微生物降解，它們可以在生物體內吸附、積累和富集，對人類、魚類、浮游生物都有非常大的危害，嚴重時可造成作物減產或牲畜死亡。

隨著我國“節能減排”政策的實施，在集成電路行業用水大戶的環評批復中明確提出，除要求廢水達標排放外，還明確要求廢水必須達到一定的回用率，實現循環經濟。在現有技術中，生產企業主要是將上述工藝混合在同一個集成電路清洗廢水回用設備中進行處理，集成電路清洗廢水的成分復雜，現有設備對這種廢水的處理需要使用較多的藥劑進行反應，浪費了較多的藥劑，同時這種廢水設備的結構復雜，不利于操作人員進行維護。

萊特萊德的集成電路清洗廢水回用系統工藝合理，運行持久穩定，經濟效益明顯，環境風險性能可控，整體布局高度集成，美觀大方。該系統采用Neterfo極限分離和MVR蒸發的組合，加上高效的軟化和脫硬系統，降低了膜系統結垢和污染的風險，保證了系統的穩定運行。Neterfo極限分離系統簡單的模塊化設計使其運行更加靈活，能夠實現集成電路廢水的回用和近零排放處理。集成電路清洗廢水回用系統的不斷創新使我國對集成電路的需求不斷增加，集成電路廢水的有效回用符合我國目前的節水環保理念。

集成電路行業是一個重度污染的行業，有很多設計生產環節，各生產環節產生的廢水類型差異比較大，需要進行廢水分流和單獨處理。對于一些污染較輕的廢水，可以進行綜合處理。集成電路工業和其他行業產生的含有重金屬離子的廢水量越來越大，成分也越來越復雜。在選擇其處理方法時，應考慮水質、水量、處理效果和經濟投入等因素，綜合運用各種組合工藝和新技術，揚長避短。

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